高沃12.11“如何高质量撰写技术交底书及专利布局”交流会 圆满召开!

2020-02-08 投稿人 : www.hebeihongye.com.cn 围观 : 916 次

如何写出高质量的技术交底书?如何进行专利布局?这似乎是每个专利申请人都无法回避的两个焦点话题。企业申请布局专利已成为大势所趋。高质量、合理的专利布局有利于企业的全局和竞争情报的预测。企业技术创新、抵御市场竞争和布局发展战略具有重要的指导意义。12月11日,在北京高禾总部会议室如期举行了“如何高质量撰写技术公开和专利布局”交流会议。来自世界各地的大约50名客户前来参加这次交流会议。随着中国自主创新能力的提高,中国企业越来越意识到做好知识产权保护工作的重要性。企业越来越渴望为创新技术寻求专利保护,并扩大海外市场。在这种背景下,做好专利布局变得越来越重要。技术公开信息作为专利申请人(发明人)与专利代理人之间的沟通信息,是专利代理人说明申请专利的技术方案的信息,这也要求专利代理人具备“高写作标准”,遵循“专业严谨”的工作流程。高沃知识产权导师对“专利申请、撰写、布局和保护”进行了深入简单的解释。写专利很容易,但写标准专利很难。通过介绍实际专利审查过程中遇到的案例,他告诉大家在撰写专利文件的过程中应该注意哪些问题,应该掌握哪些关键技术信息,以及在布局上应该遵循的几个原则,以确保对创新技术的更完善、更严格和更有效的保护。

随着世界技术竞争的日益激烈,世界各地的企业都在进行专利战略研究。专利不仅成为衡量企业实力的标准,也成为保护自己的必要武器。企业专利布局已成为大势所趋。专利申请和总体布局有利于企业的全局和竞争情报的预测,对企业的技术创新、市场竞争阻力、布局发展战略等具有重要的指导意义。本次交流会议成功召开。高沃的现场专家讲师逐一回答了客户的问题。所有参加会议的企业代表和管理人员都对老师的解释非常满意。会后的反馈受益匪浅。此外,下午将有更深入的圆桌论坛,与高沃专家面对面讨论知识产权保护问题,以解决企业知识产权布局问题,定制个性化的知识产权保护方案。高沃一直践行“利用知识产权为客户实现最大价值”的价值,为客户提供从申请到诉讼的一站式知识产权服务。如果您在专利申请和布局中遇到任何问题,请联系我们为您解决。